高周波誘導加熱装置

１．設備の概要

高周波誘導加熱を行う装置です。高周波誘導加熱とは、金属を非接触で自己発熱させることによって、ろう付、溶解、焼入れ、焼鈍、焼嵌などに利用される加熱技術です。

２．導入によって期待できる主なメリット

１）被加熱物の単位面積に供給される単位時間当りのエネルギーが大きいため、高速加熱・高温加熱が可能となる。
２）被加熱物そのものを加熱するため、加熱効率が高く、省エネルギーを実現できる。
３）瞬間加熱や局部加熱を行うことができるため、省エネルギーを実現できる。
４）出力を変えるため、温度制御が容易である。
５）クリーン加熱ができるため、作業環境の改善に繋がる。